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pss激光粒度儀適用于檢測(cè)多種顆粒物的粒度及粒度分布

 更新時(shí)間:2019-05-23  點(diǎn)擊量:3257
pss激光粒度儀采用動(dòng)態(tài)光散射原理檢測(cè)分析顆粒系的粒度及粒度分布。適用于檢測(cè)懸浮在水相和有機(jī)相的顆粒物。

      1、磨料。磨料既有天然的也有合成的,用于研磨、切削、鉆孔、成形以及拋光。磨料是在力的作用下實(shí)現(xiàn)對(duì)硬度較低材料的磨削。磨料的質(zhì)量取決于磨料的粗糙度和顆粒的均勻性。

      2、乳劑。乳劑是兩種互不相溶的液體經(jīng)乳化制成的非均勻分散體系,通常是水和油的混合物。乳劑有兩種類型,一種是水分散在油中,另一種是油分散在水中。常見的乳劑制品有牛奶(水包油型)和黃油(油包水型),加工過程中它們均需均質(zhì)化處理到所需的粒徑大小以期延長(zhǎng)保質(zhì)期。

     3、陶瓷。陶瓷在工業(yè)中的應(yīng)用非常廣泛,從磚瓦到生物醫(yī)用材料及半導(dǎo)體領(lǐng)域。在生產(chǎn)加工過程中監(jiān)測(cè)陶瓷顆粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制終產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。

      4、粘土。粘土是一種含水細(xì)小顆粒礦物質(zhì)天然材料。粉砂與粘土類似,但粉沙的顆粒比粘土大。粘土中易于混雜粉砂從而降低粘土的等級(jí)和使用性能。ISO14688定義粘土的顆粒小于63μm。

      5、涂料。涂料種類繁多,用途廣泛。涂料的顆粒大小及粒度分布直接影響涂料的質(zhì)量和性能。

      6、污染監(jiān)測(cè)。粒度檢測(cè)分析在產(chǎn)品的污染監(jiān)測(cè)方面起著重要作用,產(chǎn)品的污染對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量影響巨大。絕大多數(shù)行業(yè)都有相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)程或規(guī)范,必須嚴(yán)格遵守和執(zhí)行,以產(chǎn)品滿足質(zhì)量要求。

      7、化妝品。無(wú)論是普通化妝品還是保濕劑、止汗劑,它們的性能都直接與粒度的大小和分布有關(guān)?;瘖y品的顆粒大小會(huì)影響其在皮膚表面的涂抹性能、分布均勻性能以及反光性能。保濕乳液(一種乳劑)的粒度小于200納米時(shí)才能被皮膚良好吸收,而止汗劑的粒度只有足夠大時(shí)才能阻塞毛孔起到止汗的作用。

     8、食品。食品的原料(粉末及液體)通常來(lái)源于不同的加工廠,不同來(lái)源的原料必須滿足某些特定的標(biāo)準(zhǔn)以使終制品的質(zhì)量均一穩(wěn)定。原料性質(zhì)的任何波動(dòng)都會(huì)對(duì)食品的口味和口感產(chǎn)生影響。用原料的粒度分布作為食品質(zhì)量和質(zhì)量控制(QA/QC)的一個(gè)指標(biāo)可確保生產(chǎn)出質(zhì)量均以穩(wěn)定的食品制品。

      9、液體工作介質(zhì)/油。液體工作介質(zhì)(如:油)越來(lái)越昂貴,延長(zhǎng)液體介質(zhì)的壽命是目前普遍關(guān)心的問題。機(jī)械設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)過程中會(huì)產(chǎn)生金屬屑或顆粒落入工作介質(zhì)中(如:油浴潤(rùn)滑介質(zhì)或液力傳遞介質(zhì)),因此需要一種方法來(lái)確定介質(zhì)(油)的更換周期。通過監(jiān)測(cè)工作介質(zhì)(油)中顆粒的分布和變化可以確定更換工作介質(zhì)的周期以及延長(zhǎng)其使用壽命。

     10、墨水。隨著打印機(jī)技術(shù)的不斷發(fā)展,打印機(jī)用的墨水變得越來(lái)越重要。噴墨打印機(jī)墨水的粒度應(yīng)當(dāng)控制在一定的尺度以下,且分布均勻,大的顆粒易于堵塞打印頭并影響打印質(zhì)量。墨水是通過研磨方法制得的,可用粒度檢測(cè)分析儀器設(shè)備監(jiān)測(cè)其研磨加工過程,以墨水的顆粒粒度分布均勻,避免產(chǎn)生聚集的大顆粒。

     11、膠束。膠束是表面活性劑在溶液中的濃度超過某一臨界值后,其分子或離子自動(dòng)締合而成的膠體尺度大小的聚集體質(zhì)點(diǎn)微粒,這種膠體質(zhì)點(diǎn)與離子之間處于平衡狀態(tài)。

     12、化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)?;瘜W(xué)機(jī)械拋光是半導(dǎo)體制造加工過程中的重要步驟?;瘜W(xué)機(jī)械拋光液是由腐蝕性的化學(xué)組分和磨料(通常是氧化鋁、二氧化硅或氧化鈰)兩部分組成。拋光過程很大程度上取決于晶片表面構(gòu)型。晶片的加工誤差通常以埃計(jì),對(duì)晶片質(zhì)量至關(guān)重要。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學(xué)機(jī)械拋光加工過程的順利進(jìn)行。

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