Zeta電位被用來(lái)測(cè)量膠體分散體的穩(wěn)定性。它的基礎(chǔ)是電勢(shì)與粒子表面的電荷成比例。Zeta電位越大，粒子間的斥力就越強(qiáng)。如此大的斥力使擴(kuò)散的粒子不會(huì)隨機(jī)碰撞在一起形成聚集體。zeta電勢(shì)的測(cè)量在其他方面也很有用。在本文中，zeta電位被用來(lái)測(cè)...
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Zeta電位被用來(lái)測(cè)量膠體分散體的穩(wěn)定性。它的基礎(chǔ)是電勢(shì)與粒子表面的電荷成比例。Zeta電位越大，粒子間的斥力就越強(qiáng)。如此大的斥力使擴(kuò)散的粒子不會(huì)隨機(jī)碰撞在一起形成聚集體。zeta電勢(shì)的測(cè)量在其他方面也很有用。在本文中，zeta電位被用來(lái)測(cè)...
傳統(tǒng)意義上，紅細(xì)胞和白細(xì)胞都是用電阻法計(jì)數(shù)的。這種方法測(cè)量的是當(dāng)分散在導(dǎo)電介質(zhì)中的粒子通過(guò)小孔時(shí)，電阻的增加或相反，電導(dǎo)率的減少。這種反應(yīng)的大小與粒子的體積和大小有關(guān)。盡管這項(xiàng)技術(shù)多年來(lái)一直適用，但本文證明，使用SPOS(單粒子光學(xué)傳感)結(jié)...
CMP漿體粒徑分析：SPOS與費(fèi)朗霍夫半導(dǎo)體行業(yè)正在朝著更小的線寬和更多的層的方向發(fā)展。邁向這種高密度芯片技術(shù)的重要的工藝考慮之一是對(duì)平面化步驟的更復(fù)雜的控制。拋光步驟受膠體分散金屬氧化物漿料（CMP，化學(xué)機(jī)械平面化的簡(jiǎn)稱）的影響，主要是二...
磨料漿檢測(cè)儀應(yīng)用十分廣泛，主要應(yīng)用于石化工業(yè)、電力工業(yè)、航空造船業(yè)、造紙業(yè)、紡織業(yè)、冶金工業(yè)等。采用標(biāo)準(zhǔn)的凱氏定氮方法:濃硫酸消化、堿性環(huán)境蒸汽蒸餾、硼酸吸收、指示劑滴定終點(diǎn)顏色判定法；采用持續(xù)滴定方式，可無(wú)*滴定，無(wú)需來(lái)回抽吸試劑；終點(diǎn)可...
在線激光粒度儀是通過(guò)顆粒的衍射或散射光的空間分布(散射譜)來(lái)分析顆粒大小的儀器，采用Furanhofer衍射及Mie散射理論，測(cè)試過(guò)程不受溫度變化、介質(zhì)黏度，試樣密度及表面狀態(tài)等諸多因素的影響，只要將待測(cè)樣品均勻地展現(xiàn)于激光束中，即可獲得的...
磨料漿檢測(cè)儀采用標(biāo)準(zhǔn)的凱氏定氮方法:濃硫酸消化、堿性環(huán)境蒸汽蒸餾、硼酸吸收、指示劑滴定終點(diǎn)顏色判定法；采用持續(xù)滴定方式，可無(wú)*滴定，無(wú)需來(lái)回抽吸試劑；終點(diǎn)可調(diào)：可以任意設(shè)置用戶認(rèn)可的顏色作為終點(diǎn)；三階段滴定速度自動(dòng)介入，確保既快速又；預(yù)滴定...
單顆粒計(jì)數(shù)器是測(cè)試油液粒子顆粒的粒徑及其分布的儀器，由顯微鏡發(fā)展而來(lái)，經(jīng)歷了顯微鏡、稱重法、顆粒計(jì)數(shù)器、PLD油液顆粒度分析儀的過(guò)程，其中因單顆粒計(jì)數(shù)器測(cè)試速度快、動(dòng)態(tài)分布寬、不受人為影響等各方面的優(yōu)勢(shì)，而成為近年來(lái)很多行業(yè)的主流產(chǎn)品。單顆...
磨料漿檢測(cè)儀主要針對(duì)2010年版《中國(guó)藥典》大小針劑、輸液、高粘度、有色及有機(jī)樣品微粒及粒度分布檢測(cè)的新一代微粒檢測(cè)儀，采用高精度的激光傳感器，檢測(cè)范圍寬，性能穩(wěn)定，不易堵塞，方便用戶自我維護(hù)，可更換不同規(guī)格的傳感器。磨料漿檢測(cè)儀采用標(biāo)準(zhǔn)的...
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